首页 产品中心 案例中心 新闻中心 关于我们 联系我们

细粉加工设备(20-400目)

我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备,拥有多项国家专利,能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目,是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。

超细粉加工设备(400-3250目)

LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术,专注于400-3250目范围内超细粉磨加工,细度可调可控,突破超细粉加工产能瓶颈,是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。

粗粉加工设备(0-3MM)

兼具磨粉机和破碎机性能优势,产量高、破碎比大、成品率高,在粗粉加工方面成绩斐然。

碳化硅国内外主要生产工艺介绍碳化硅国内外主要生产工艺介绍碳化硅国内外主要生产工艺介绍

  • 碳化硅国内外主要生产工艺介绍

    碳化硅(SiC)是用石英砂、石油焦(或煤焦)、木屑(生产绿色碳化硅时需要加食盐)等原料 详细介绍 物质特性 碳化硅由于化学性能稳定、导热系数高、热膨胀系数小、耐磨性 常用的制备碳化硅粉体方法有碳热还原法、机械粉碎法、溶胶–凝胶法、化学气相沉积法和等离子体气相合成法等等。 本文对SiC粉体的制备、碳化硅陶瓷烧结技术和应用进行系统 碳化硅的制备及应用最新研究进展 汉斯出版社

  • 碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 国家自然科学基金

    2021年7月21日  碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求,大力发展碳化硅产业,可引领带动原材料与设备两个千亿级产业,助力我国加快向高端材料、高端设备制造业转型发展的步伐。 今年发布的“‘十四五’规划和 2016年12月12日  界面层,又称界面相,是陶瓷基复合材料内部连接连续相基体和增强相纤维的桥梁,是调节纤维与基体之间结合强度的关键因素。 界面层的组分和结构很大程度上决定了陶瓷基复合材料力学性能,特别是材料的韧性。 界面层的作用包括四部分[29 32]:(1) 隔离作用:在 连续碳化硅纤维增强碳化硅陶瓷基 复合材料研究进展

  • 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

    碳化硅微粉生产工艺介绍:发布日期: 碳化硅可以称为金钢砂或耐火砂,目前我国工业生产的碳化硅分为黑色碳化硅和绿色碳化硅两种。 碳化硅主要有四大 碳化硅的生产方法、性能、种类及行业应用 引言 众所周知,碳化硅是硬度很大的化合物,仅次于金刚石 (硬度15)和碳化硼 ( 碳化硅国内外主要生产工艺介绍

  • 碳化硅(SiC)行业深度:市场空间、未来展望、产业链及相关

    2023年9月27日  作者:慧博智能投研碳化硅(SiC)行业深度:市场空间、未来展望、产业链及相关公司深度梳理近年来,随着5G、 新能源 等高频、大功率射频及电力电子需求的快速增长,硅基半导体器件的物理极限瓶颈逐渐凸显,如何在提升功率的同时限制体积、发热和成本的快速膨胀成为了半导体产业内重点关知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

  • 2023年全球及中国碳化硅(SiC)行业现状及发展趋势分析

    2023年12月6日  1、全球碳化硅行业市场规模 碳化硅的优势是其高效率、低能耗和耐高温的特性,这些优点使得碳化硅成为新一代功率器件的理想选择。 在电动汽车、可再生能源和工业自动化等应用的推动下,碳化硅的需求量不断增加。 数据显示,2022年全球碳化硅行业市 2016年6月3日  铝碳化硅复合材料介绍 铝碳化硅复合材料(AlSiC) Metalized Ceramic),是一种新型功能复合材料,全称铝基碳化硅陶瓷颗粒增强复合材料(Reinforced Material Aluminum Matrix SiC Particle )。 其展现出的优异性能,吸引了国内外无数的科研院所和科技公司对其 生产制造技术投入资金 铝碳化硅(AlSiC)复合材料及产品介绍 铝碳化硅复合材料介绍

  • 知乎专栏

    本文详细分析了半导体碳化硅(SIC)外延技术的原理、方法和优势,介绍了外延质量和缺陷率对SIC功率器件性能的影响,是SIC领域的专业参考资料。2016年3月24日  碳化硅国内外主要生产工艺介绍碳化硅保护管等产品,是山东产品自投放市场以来,得到国内外用户的信赖和支持。氮化硅结合碳化硅棚板和隔焰板在技术要求上是根据国内主要生产厂家产品的工艺特点、技术快照全球与中国碳化硅晶片市场现状及未来发展趋势报告导读:本报告研究全球与中国 碳化硅国内外主要生产工 中原矿机

  • 碳化硅赛道“涌动” ,国内外巨头抓紧布局 电子发烧友网

    2023年12月4日  碳化硅赛道“涌动” ,国内外巨头抓紧布局 近年来,在 新能源 汽车、光伏等应用的带动下,碳化硅行业迎来了快速发展阶段。 据Yole报告显示,未来碳化硅在功率半导体中的市场份额将稳步提升,到2028年将达到约25%的市场份额,属于一个具有明确发展前 2024年4月18日  三、Acheson工艺 Acheson工艺是一种传统的SiC生产方法。在此过程中,将混 合好的硅砂和碳素材料填充在特制的石墨坩埚中,利用电弧炉产生的高温进行反应。炉温在反应区可达2400°C,这时硅砂和碳在石墨电极的电场作用下发生反应,生成碳化硅。浮思特|碳化硅SiC生产工艺的全景解析 百家号

  • 碳化硅的合成、用途及制品制造工艺

    2020年6月10日  碳化硅是用天然硅石、碳、木屑、工业盐作基本合成原料,在电阻炉中加热反应合成。 其中加入木屑是为了使块状混合物在高温下形成多孔性,便于反应产生的大量气体及挥发物从中排除,避免发生爆炸,因为合成IT碳化硅,将会生产约14t的一氧化碳 (CO 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

  • 知乎 有问题,就会有答案

    2024年2月27日  描述 一、 国外主要碳化硅衬底厂商 国外曾有多达十家碳化硅衬底厂商,如今百分之七八十都已经被收购了。 主要原因是下游器件厂商注意到碳化硅非常紧缺,材料端供应安全性、稳定性一直让其非常担忧,所以很早就开始考虑如何布局。 2009年,Rhom收购了 碳化硅衬底产业全景:国内外主要厂商分布图 电子发烧友网

  • 绿碳化硅的砂轮生产工艺介绍及注意事项技术磨料磨具网

    2013年2月20日  绿 碳化硅 , 砂轮 代号GC砂轮适用于加工硬质合金,玻璃,陶瓷和非金属材料外,还用于半导体材料,高温硅碳棒发热体,远红外源基材等。 绿碳化硅 砂轮生产工艺 绿碳化硅制造方法同黑色碳化硅,但采用的原材料纯度要求较高,也在电阻炉中2200°C左右 2020年3月16日  Cree公司采用双注入MOSFET(double implantation MOSFET,DMOSFET) 的技术路线,结构如图4(a)所示,该公司自2010 年起发布商业化SiC MOSFET。 器件通过改进元胞尺寸以及改善SiC/SiO2( 二氧化硅)界面特性的手段,元胞尺寸从发布的代产品的10 m 降低至第三代产品的6 m,比导通电阻也从 碳化硅功率器件技术综述与展望 CSEE

  • 系列详解第三代半导体发展之碳化硅(SiC)篇材料

    2019年6月13日  因此,以碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN)等为代表的第三代半导体材料的发展开始受到重视。 技术领先国家和国际大型企业纷纷投入到碳化硅和氮化镓的研发和产业化中,产业链覆盖材料、器件、模块和 知乎专栏知乎专栏

  • 中国碳化硅的2024,是未来也是终局澎湃号湃客澎

    2022年8月26日  然而,国内碳化硅的技术水平,特别是衬底的水平,和海外龙头有着不止一点点的差距,产能上也差了两三个数量级。更为要命的是,海外龙头规划了大量的新增产能,这些产能大多在2024年左右满产或 2022年6月4日  碳化硅衬底主要有2大类型:半绝缘型和导电型。在半绝缘型碳化硅市场,目前主流的衬底产品 规格为4 英寸。在导电型碳化硅市场,目前主流的衬底产品规格为 6 英寸。 由于下游应用在射频领域,半绝缘型SiC衬底、外延材料均受到美国商务部出口管制。《行业深度研究:碳化硅: 冉冉升起的第三代半导体》

  • 碳化硅生产工艺流程详细介绍?碳化硅生产工艺流程以及工作

    2019年11月4日  种碳化硅微粉的生产工艺,其特征在于,其步骤如下: (1)取碳化硅原料,经破碎机中碎,并筛分至不大于5mm的碳化硅颗粒,再用整形机对其进行整形至不大于2mm的碳化硅颗粒,且其中椭圆形颗粒占80%以上,再对其进行酸洗除杂,干燥; (2)将上述 该法生产的碳化硅粉体不够细,杂质多,能耗低,效率低,但由于操作工艺简单,仍被广泛用于碳化硅的制备。 以下是几种常见的固相法。 1) 机械粉碎法:将粉体颗粒状的碳化硅在外力作用下将他研磨煅烧一系列操作后得到超细粉体,该工艺及设备简单,成本也低,但效率高,缺点就是反应中易 碳化硅的制备及应用最新研究进展 汉斯出版社

  • 第三代半导体碳化硅衬底分类、技术指标、生长工艺、产业链

    以碳化硅材料为衬底的 产业链 主要包括碳化硅衬底材料的制备、外延层的器件制造以及下游应用市场。 在碳化硅衬底上,主要使用化学气相沉积法长 (CVD法)在衬底表面生成所需的薄膜材料,即形成外延片,进一步制成器件。 碳化硅衬底的下游产业链如下 本文将全面探讨碳化硅粉的生产工艺,包括原料选择、工艺流程、设备选型以及产品应用等方面。 原料选择 碳化硅粉的主要原料是石墨和二氧化硅。 石墨作为碳源,具有良好的导电性和高温稳定性,而二氧化硅是硅源,能够提供充足的硅原子。 在选择原料 碳化硅粉生产工艺 百度文库

  • 知乎专栏

    知乎专栏碳化硅(SiC)MOSFET性能的优势与技术的难点 引言:碳化硅功率器件近年来越来越广泛应用于工业领域,受到大家的喜爱,不断地推陈出新,大量的更高电压等级、更大电流等级的产品相继推出,市场反应碳化硅元器件的效果非常好,但似乎对于碳化硅元器件的 碳化硅(SiC)MOSFET性能的优势与技术的难点 知乎

  • 碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 国家自然科学基金

    2021年7月21日  碳化硅,第三代半导体时代的中国机会 5G通信、电动汽车等新兴产业对碳化硅材料将产生巨大需求,大力发展碳化硅产业,可引领带动原材料与设备两个千亿级产业,助力我国加快向高端材料、高端设备制造业转型发展的步伐。 今年发布的“‘十四五’规划和 2016年12月12日  界面层,又称界面相,是陶瓷基复合材料内部连接连续相基体和增强相纤维的桥梁,是调节纤维与基体之间结合强度的关键因素。 界面层的组分和结构很大程度上决定了陶瓷基复合材料力学性能,特别是材料的韧性。 界面层的作用包括四部分[29 32]:(1) 隔离作用:在 连续碳化硅纤维增强碳化硅陶瓷基 复合材料研究进展

  • 知乎专栏 随心写作,自由表达 知乎

    碳化硅微粉生产工艺介绍:发布日期: 碳化硅可以称为金钢砂或耐火砂,目前我国工业生产的碳化硅分为黑色碳化硅和绿色碳化硅两种。 碳化硅主要有四大 碳化硅的生产方法、性能、种类及行业应用 引言 众所周知,碳化硅是硬度很大的化合物,仅次于金刚石 (硬度15)和碳化硼 ( 碳化硅国内外主要生产工艺介绍