细粉加工设备(20-400目)
我公司自主研发的MTW欧版磨、LM立式磨等细粉加工设备，拥有多项国家专利，能够将石灰石、方解石、碳酸钙、重晶石、石膏、膨润土等物料研磨至20-400目，是您在电厂脱硫、煤粉制备、重钙加工等工业制粉领域的得力助手。
超细粉加工设备(400-3250目)
LUM超细立磨、MW环辊微粉磨吸收现代工业磨粉技术，专注于400-3250目范围内超细粉磨加工，细度可调可控，突破超细粉加工产能瓶颈，是超细粉加工领域粉磨装备的良好选择。
粗粉加工设备(0-3MM)
兼具磨粉机和破碎机性能优势，产量高、破碎比大、成品率高，在粗粉加工方面成绩斐然。
氮化硅设备
北方华创12英寸氮化硅LPCVD获突破，进入中国IC制造龙头企业
2020年4月20日 氮化硅(Si3N4) 薄膜是一种应用广泛的介质材料。 作为非晶绝缘物质，氮化硅膜的介质特性优于二氧化硅膜，具有对可动离子阻挡能力强、结构致密、针孔密度小 2024年5月7日 特点 氮化硅（Silicon Nitride, Si 3 N 4 ）是一种先进的工程陶瓷材料，具有出色的高温性能和优异的机械性能。 1 高温下的高强度和断裂韧性 氮化硅在高温下表 氮化硅陶瓷材料介绍 – 海德精密陶瓷有限公司
氮化硅以研发为主体的粉体设备制造商
氮化硅是一种重要的结构陶瓷材料。 它是一种超硬物质，本身具有润滑性，并且耐磨损，为原子晶体;高温时抗氧化。 而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1000℃以上，急2024年6月12日 THEORIS SN302D主要用于12英寸晶圆上的氮化硅薄膜低压化学气相沉积工艺，可覆盖高、低温氮化硅薄膜沉积。 该机台可进行全自动工艺流程，系统主要由传 12英寸立式低压化学气相沉积氮化硅炉 产品管理 北方华创
氮化硅绝缘环件：解密电力设备中的隐秘技术陶瓷材料
2024年1月24日 氮化硅绝缘环件的使用寿命比普通的氧化铝绝缘环件高出3倍以上。这意味着，使用氮化硅绝缘环件的电力设备 可以大大降低维护成本，提高设备的运行效率。氮化硅衬桶 再者，氮化硅绝缘环件的抗腐蚀性能也非常优秀。在湿润的环境中，普通 2021年11月21日 于是，瓷兴又给自己的生产工艺加码：设计制造更大的设备，并且要在一步步增大的设备中做出高端氮化硅，实现有竞争力的产业化。 “我们一开始小步前行，按照40升反应釜的设计要求，与设备厂家合作，逐渐把反应釜增大到60升又增大到150升。攀登世界氮化硅技术之巅—— 瓷兴：小颗粒里有大洞天
氮化硅生产中的常用设备
2024年3月2日 氮化硅是一种重要的高性能材料，它常被用于制作抗磨损、抗腐蚀要求较高的元器件。 在高温加热类的部件，如高温管道制作中常被用到。 影响氮化硅主要性能的因素有很多，比如原材料的纯度、制备过程中温度的把控，但是影响较大的一项主要因素是其颗粒 2023年12月27日 氮化硅加热器也被广泛应用于各种家用电器中。 例如直热及贮水式、节能快热式电热水器、快热式液体加热、电暖、冷热饮机、空调加热器、直热水龙头、恒温器以及蒸气发生器等。这些设备使用氮化硅加热器可以实现快速加热、节能环保、安全可靠等功能。氮化硅加热器：高效、环保、耐用的加热新星 CERADIR
氮化硅市场规模、行业份额预测 2032 年 Fortune Business
氮化硅具有优异的性能，例如耐腐蚀、耐磨、耐热和对化学反应的惰性，使其成为各种行业中最受欢迎的陶瓷材料。此外，最近电动汽车的蓬勃发展需要高效、经济和可靠的电力设备，这也预示着氮化硅市场的增长。2023年11月30日 氮化硅（Si3N4）陶瓷作为先进结构陶瓷，具有耐高温、高强度、高韧性、高硬度、抗蠕变、耐氧化以及耐磨损等优异性 [] 氮化硅（S i3N4 ）陶瓷作为先进结构陶瓷，具有耐高温、高强度、高韧性、高硬度、抗蠕变、耐氧化以及耐磨损等优异性能的同时，还具备良好的抗热震性与介电性能、高热导率 高致密性、高强度的氮化硅陶瓷烧结工艺介绍 艾邦半导体网
氮化硅精密陶瓷（高级陶瓷）京瓷 KYOCERA
氮化硅 氮化硅主要由Si3N4组成，耐热冲击性极强和高温强度极佳。 这些特性使其成为汽车发动机和燃气轮机中的理想材料。 它可用被应用于涡轮增压器转子、柴油发动机中的发热插头和带电插拔中，还被用于很多其它不同应用中。2017年2月9日 I研究和降低垂直型DLPCVD制备氮化硅膜的微粒影响摘要垂直型炉管机台LPCVD由于其良好的均匀度和批量生产的优势使得其从0世纪90年代开始，一直是集成电路制造领域必备的设备之一。普遍应用于制备二氧化硅、多晶硅、氮化硅等工艺领域。在生产过程中，最主要的三个指标是：膜厚、均匀度、杂质 研究和降低垂直型LPCVD制备氮化硅膜的微粒污染 道客巴巴
研发新型氮化硅陶瓷材料 增强特高压设备可靠性 CPEM
2023年3月14日 氮化硅陶瓷材料是一种由硅氮元素以共价键结合的化合物，具有良好的机械强度、绝缘性能、温度稳定性、导热性和耐腐蚀性能，是结构陶瓷家族中综合性能最为优异的一类，在特高压直流六氟化硫气体内绝缘电气设备中应用潜力巨大。2023年2月22日 氮化硅不同于铸铁和旧陶瓷，与熔融铝几乎不会发生反应。因此可以确保使用寿命更长。根据记录，对升液管定期实施轻微维护就可以实现2~3年的长期寿命。 无污染 由普通材料制成的零件上的铁污染物总是影响质量的关键因素，氮化硅则不同。它几乎不会与熔铝铸造用氮化硅成分与设备 KYOCERA
探索氮化硅球的无限可能，开启材料科学新篇章SiliconBalls
3 天之前 这一切使得氮化硅滚动体成为航空航天及汽车工程等领域中的理想选择，尤其是在需要轻质且耐高温部件的情况下更是如此。氮化硅球 当谈到具体的应用实例时，氮化硅滚珠（Nitriding Silicon Ball Bearings）正在重新定义我们对于经典机械设备的理解。2024年4月30日 综上所述，氮化硅磨介球凭借其出色的综合性能，不仅是当前精密研磨技术中的重要一环，更是未来设备行业发展变革不可或缺的支持力量。 展望未来，我们期待更多的技术创新能加速这一进程，让氮化硅磨介球成为推动我国乃至全球产业链迈向更高水平的强 氮化硅磨介球：精密研磨，助力设备行业升级领域制造技术
芯恺半导体设备(徐州)有限责任公司产品服务
低压炉主要实现不同类型的薄膜在晶圆表面的沉积工艺，主要是多晶硅，氮化硅，氧化硅等薄膜。 低压设备分为低压力化学气相沉积和原子层沉积。 【常压设备】 主要应用工艺是氧化、退火和合金，炉管的工作温度为 300~ 110 0 度，压力为一个标准大气压，一般使用氢气加氧气，或者氮气等。2022年10月21日 LPCVD氮化硅设备 对颗粒污染的影响研究摘要：颗粒污染在集成电路制造工艺中会引起严重的缺陷，会对后续光刻对位造成影响，甚至会导致电路性能下降、使用寿命缩短。尤其是在深亚微米集成电路制造工艺中，颗粒污染对产品良率的影响就更为 LPCVD氮化硅设备对颗粒污染的影响研究 豆丁网
高强度氮化硅陶瓷球是工业设备的稳定保障不锈钢合金钢
2024年5月14日 在工业生产中，设备的稳定性与效率至关重要，它们直接关系到生产的连续性和产品的质量。在这其中，轴承作为核心组件之一，其性能表现尤为关键。随着科技的进步，传统的金属轴承逐渐被新型材料所取代，尤其是以氮化硅（Si3N4）为基础的陶瓷球，在多种应用场景下展现出了优越的性能。2024年6月6日 氮化硅硅片（LPCVD） 备注：①氮化硅薄膜只能加工厚度小于400nm以下；②400nm以内的厚度，可以基于工艺需求进行定制厚度。 备注：①氮化硅薄膜只能加工厚度小于400nm以下；②400nm以内的厚度，可以基于工艺需求进行定制厚度。氮化硅硅片（LPCVD） 先进电子材料与器件校级平台
LPCVD氮化硅设备对颗粒污染的影响研究docx 道客巴巴
2023年9月23日 LPCVD氮化硅设备对颗粒污染的影响研究LPCVD氮化硅设备对颗粒污染的影响研究摘要：随着现代半导体技术的不断发展，LPCVD氮化硅技术已经成为制备高质量晶体硅片的重要工艺之一。在LPCVD氮化硅过程中，颗粒污染对氮化硅薄膜的质量和稳定性均会产生不良影响。因此，本文主要研究LPCVD氮化硅设备对 2022年6月25日 现在国内还没有企业真正完成氮化硅基板产业化，各高校、研究院所和企业都处于小批量研制阶段。 中材高新氮化物陶瓷有限公司在“十三五”国家重点研发计划支持下，系统研究并突破了高导热Si 3 N 4 基板 高导热氮化硅陶瓷基板产业化进展要闻资讯中国粉
氮化硅轴承球：革新传统，领跑未来！设备高性能降低
2024年3月27日 氮化硅轴承球 氮化硅轴承球的优势 1高强度与高硬度：氮化硅轴承球具有极高的强度和硬度，其抗压强度达到2400 MPa，洛氏硬度高达75HRB以上。这一特性使其在恶劣的工作环境下依然能保持稳定的性能表现，显著提高了设备运行的可靠性。2023年11月9日 1 化学气相沉积法是一种常用的制备氮化硅粉的方法。 该方法是将硅烷和氮气在高温下反应，生成氮化硅沉积在基底上。 该方法的优点是制备的氮化硅粉纯度高、粒度细且均匀，缺点是成本较高且需要使用大量的气体。 2 高温自蔓延合成法是一种简单实用 氮化硅的制备方法和用途
用磷酸揭示氮化硅对二氧化硅的选择性蚀刻机理 华林科纳
2021年10月28日 这些行为使用更多的奥费拉尔詹克斯 (MOFJ)图进一步证明。 我们还研究了氟化氢作为蚀刻剂，以比较它与二氧化硅和氮化硅的相对反应性，因为二氧化硅与氟化氢的反应性比与磷酸的反应性更强。 [20]此外，通过溶液中的质子传输，我们解耦了水分子对蚀 摘要： 制备低应力的氮化硅薄膜是微机械系统和集成电路中非常重要的工艺在温度不高于80℃的条件下,采用ICPCVD设备,利用硅烷和氮气作为前驱体沉积氮化硅介质薄膜研究了沉积温度,ICP功率,硅烷与氮气流量比例,工作气压等因素对氮化硅薄膜应力的影响,并利用相关的理论合理解释了应力随不同工艺 ICPCVD设备低温制备低应力氮化硅薄膜工艺的探索 百度学术
走近名企 宇部化工（UBE）高纯氮化硅粉体摘要篇
2024年2月20日 宇部化工（UBE）独树一帜的液氨（硅胺热解）法 氮化硅 粉体自从上世纪80年代上市以来，被广泛领域认可，并被全球陶瓷生产商认可是品质最高。 本文将就起生产制备以及产品规格简要汇总，以供相关从业者了解学习。 1、生产工艺 宇部化工的生产流程 适用于多层互连的平面化 这些特性意味着氧氮化硅薄膜作为最终钝化层、金属间层电介质和沟槽隔离衬垫的效果非常好 氧氮化硅薄膜规格： 厚度：100Å – 2μm 折射率：15 – 19 薄膜应力：250MPa 加工面：单面 温度：约400°C 晶圆直径：50mm – 300mm氮化硅薄膜 Silicon Valley Microelectronics
氮化硅镀膜工艺揭秘：多种技术对比，工艺流程优化
4 天之前 A 氮化硅的化学成分与晶体结构 氮化硅（Si₃N₄）是一种重要的化合物，由硅和氮组成。其分子式为Si₃N₄，结构非常稳定，具有高强度和高硬度。氮化硅有三种主要的晶体结构：α相、β相和γ相，其中α相和β相是常见的结构，广泛应用于实际工程中。详情介绍 热等静压（HIP或HIPPING或HIPPED）氮化硅陶瓷球，代表了氮化硅材料制备的最高水准之一。 符合ASTM F2094M2008的II级材料标准。 对于热等静压氮化硅陶瓷球产品，下单后即可享受优惠，详情请咨询：。 注：每种产品拍摄后显示的颜色不一 热等静压氮化硅球上海泛联科技股份有限公司
高纯度氮化硅粉体生产工艺的制作方法 X技术网
本发明涉及一种氮化硅生产设备，特别是涉及一种高纯度氮化硅粉体生产工艺。背景技术：氮化硅具有良好的抗热冲击性、抗氧化性、耐高温、耐腐蚀、化学稳定性高、强度高等一系列优异的热物理性能，是一种优良的高温结构材料。氮化硅反应炉是在通入氮气、氩气、氢气的状态下把硅石烧制成 2024年1月24日 氮化硅绝缘环件的使用寿命比普通的氧化铝绝缘环件高出3倍以上。这意味着，使用氮化硅绝缘环件的电力设备 可以大大降低维护成本，提高设备的运行效率。氮化硅衬桶 再者，氮化硅绝缘环件的抗腐蚀性能也非常优秀。在湿润的环境中，普通 氮化硅绝缘环件：解密电力设备中的隐秘技术陶瓷材料
攀登世界氮化硅技术之巅—— 瓷兴：小颗粒里有大洞天
2021年11月21日 于是，瓷兴又给自己的生产工艺加码：设计制造更大的设备，并且要在一步步增大的设备中做出高端氮化硅，实现有竞争力的产业化。 “我们一开始小步前行，按照40升反应釜的设计要求，与设备厂家合作，逐渐把反应釜增大到60升又增大到150升。2024年3月2日 氮化硅是一种重要的高性能材料，它常被用于制作抗磨损、抗腐蚀要求较高的元器件。 在高温加热类的部件，如高温管道制作中常被用到。 影响氮化硅主要性能的因素有很多，比如原材料的纯度、制备过程中温度的把控，但是影响较大的一项主要因素是其颗粒 氮化硅生产中的常用设备
超细粉碎技术概述
--手提轻便式角磨机使用安全规范
--粉碎制沙机产品介绍
--水洗石英机器
--什么地方用大型磨粉机
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--二手立磨矿粉磨机转让
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--破石磨的风水
--汛期露天矿山应急预案
--MDDK磨机结构
--电厂脱硫碳酸钙生产工艺
--粉体企业的需要什么设备
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